回归与材料学【卷一结)

咚咚咚，一阵敲门声响起，正在审阅文件的方叶并没有抬随说:“来。

门被推开，秘书程昱走了来，他后还跟着一位已是中青年的男，旦见来人面圆，发四六分，着一副黑边框镜，而他来之后，却是站得笔直。

“董事，您看谁回来了。”程昱一脸欣喜的说。

方叶抬，随之愣了一，他搁手中的文件，站了起来，就见来人瞬间眶就红了，报:“董事，许耀明完成学业归来，向您报到。≈ot;方叶来到他的旁，双手放到许耀明的肩膀上，仔细的打量着，双手重重一，声:“回来就好，这些年辛苦你了。”

许耀明抬手了睛，随即将手中的一个蓝的本本递向了方叶说:“这是我的学业成绩，请董事审阅。

方叶接过掀开看了起来，这是瑞典皇家理工学院的博士学位证书，1963年2月刚刚颁发的还呼着呢，方叶兴的说:“恭喜你，从今以后我们华昌又多了一位博士。

七年前，也就是1956年，许耀明被方叶派往瑞典学习，那时他还是一位26岁的小伙，如今七年过去，当初的青脸庞已经褪去，多了一份学者风范和成熟。

方叶拉着他坐了来，随手泡起了茶，而许耀明则介绍着他这些年在瑞典的学习经历，1956年抵瑞后，便了斯德哥尔大学为斯两年的修，期间努力学习瑞典语和英语，1958年硕士研究生毕业后考瑞典皇家理工学院攻读博士研究生学位，五年后顺利完成答辩。

学业的是反而不是方叶最关心的，他更关心许耀明的个人生活况，于是问:“在那边找女朋友没有?

许耀明说:“没有，我与公派留学生一样，留学期间不谈恋。

方叶了，将茶递了过去，略作思索说:“现在回来了，工作的事凭你个人意愿是研究院还是工厂都行，不过这些事不是最重要的，你现在要的是先回上海看望父母，而后尽快解决个人婚姻问题，终大事不能耽误。

许耀明说:“这些年不在国，不知华昌发展况，工作的事还听从董事的安排。

一旁的程昱随即将华昌这些年的发展给他作了介绍，而后说:“华昌现在分成了华昌和华为两个集团。华昌研究院主要从事机电类和金属材料类研究，华为那边是半导和计算机技术类研究。目前集团共有28万余人，其中研究人员约3100人，但2300余人都在华为那边。

“没想到这几年公司已经发展得这么大了。“许耀明叹的说:“我博士攻读的是电气工程及自动化专业，所以还是能专业工作，无论是研究还是工厂都行。

方叶想了想说:“集团在机电技术领域未来的重方向是半导设备及数控机床技术，术而其中半导设备是重攻关方向，包括激光光刻机和刻蚀机，这两个设备技术、研究难度大，就个人的看法，建议你在这两个方向中选一个。

≈ot;哪个难度最?”许耀明问。

“就目前来说，光刻机难度最。”方叶答。

“那我选光刻机。

≈ot;你要考虑清楚了，虽然你在国外学的是电气自动化专业，但是光刻机还涉及到激光技术，这里的专业一也不比你在瑞典的学业难度低。”

许耀明定的答:“董事，我想清楚了，我选光刻机!

方叶了:“行，那你加华为，到唐九华学委员手工作，光刻机项目目前他在负责。

“不过，过去之后，你对第一代银汞灯光刻机技术到基本掌握和理解就行，但第二代的接式激光光刻机就需要认真研究，现在该型光刻机已经投集成电路生产，而我们接来要搞的是第三代接近式光刻机，采用能气激光技术，因此你可能需要分别到清华和中科院光机所修一段时间。≈ot;方叶所说的第一与第二代光刻机，其实并不是历史上的路线划分，而是基于中国光刻技术发展路径行的划分，第一代采用银汞灯紫外线，其功率受限，生产效率慢，度难的保证，极限只能达到90微米，且良品率低，而第二代接式光刻机采用的是激光技术。

该型光刻机在1962年投使用，但它的技术得到了升级，过去的胶片掩模版损耗大，成品良率低，因此改成了石英掩模版，度极限虽说能到3微米，但是这极限良品率不足20，因此最大只能到到12至15微米，而我国卖给南斯拉夫的就是第一代技术。

正在研发的第三代接近式光刻机与第二代接式相同之是都采用激光光源，不过光源生成原理不同，第三代采用的是气激光发生技术，能产生400n左右的波，属于第一代uv紫外线光刻技术，其能够将工艺节达到3至5微米，缺是依旧无法分布光刻。

所谓分布式光刻，其实就是晶圆载台能够移动，并通过激光不停的投将掩模版上的电路图像分布排列到晶圆上，减少了生产过程中人为作和过程繁复对良率的影响。

简单说，就是现的光刻机，并不能一次在整块晶圆上全光刻完，只能一片片的生产芯片，这技术的缺就是，若大批量生产就需要大量光刻机，同时生产过程中良品率依旧需要提。

第三代光刻机不用再将掩模版压到晶圆上，其掩模版与晶圆之间有间隙并不接，所以需要的激光能束更，光源发的组件也就不同，这技术方式不仅能减少光刻中的掩模版损耗，光束漫等问题，而且电路图案更清晰，良品率也会更一旦该技术投使用之后，就能够行大规模集成电路生产了，生产成本将会大幅的降低，集成电路产品走千家万将不再是问题，而要行超大规模的集成电路生产，其生产效率和良品率都需要一步提，这将是第四代光刻技术也即--分布式光刻机。

但分布式光刻机依旧不能一次在晶圆上刻蚀一个完整的电路图案，它虽能一次在整个晶圆上行图案刻蚀，但需要多重曝光来实现，而要实现每一次激光投就完成一块芯片的刻蚀，这就需要引一代步式光刻机技术。

中国能否实现跨代光刻技术发展，这需要看接来对激光技术和机械技术的研究度，若中国能在分布式光源技术上取得重大突破，那么就可以考虑直接迈过这一技术，从而一代步式光刻机技术，但这代技术对于激光能和机械运动度要求更。

显然，方叶让许耀明光刻机项目，为的就是先解决未来步式光刻机技术，这样一来芯片上晶叠加层级就会更多，生产效率也会更，同时解决刻蚀

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