丑话说在前

全国如火如荼的思想大批判，并没有影响到了国家的正常建设,一五计划来到了第三年,过去三年间，从最初的完成经济恢复到展开全面建设，特别是156项工业，如一汽、太原电厂、重型机厂、哈量刃厂等等陆续奠基。

而在刚过去的1954年，更是取得了一系列的成就，新中国第一架初教五教练机在南昌起飞、上海机床厂继华昌机电后，第二个制造了3160外圆磨床并线、川藏、青藏公路通车，官厅库完成建设…。

当然这中间也有少不了在方叶影响所诞生的新贡献，如新中国第一台电脑、第一台脱粒机、无刷电机、微型轴承等等。

另外华昌集团及其合作的研究单位，更是现了一批原创新发明和新技术，如新型半导晶、集成电路板、数控系统、电主轴、永磁伺服电机、磁带薄机等，共获得45项技术发明专利，其中集成电路板为世界首创新发明，比国早了整整四年,华昌研究平和技术贡献能力在全国工业领域─骑绝尘。

不过虽然华昌取得了一系列的成就,但是方叶对此却并不十分满意,对于他来说，华昌整上的制造平最多达到了二战后期西方工业平，远远没有完成他心中的构想，一切还任重而远。

在方叶看来，只有计算机、数控机床、硅工业、集成电路、压这四大块全补齐，华昌集团才能在未来真正的站住脚，从此成参天大树,而现在的华昌看似朝气蓬，欣欣向荣，但是方叶知,它还是只有一条的瘸。

特别是硅工业的建立，关系到华昌未来的生死存亡问题，而原本新中国硅工业的建立，要一直等到1957年，方叶显然等不了那么久，因此他的心里其实是十分焦急的,不过他也知，就现在中国硅工业完全一片空白状态，任凭自己如何急也改变不了事实，中国一没有硅提炼炉、二没有制备硅单晶的人才，三连相关专业书藉都没有。

如今新中国第一硅单晶的发明人丁守谦还在北大读研究生，林兰英博士还在国纽约,他只好找到了北就应用理所的叶式中和汪光川二人，聘用他们行硅工业的相关研究，然而两位先生之前并没有搞过硅半导的提炼，国也没有相关的专业书藉，方叶又不得不行提供。

两人的研究已经一年有余，才将将看完了书藉，并且国至今没有硅提炼炉，所以一切都是枉然，一直到了1954年的10月，在方叶的烈建议，中国向苏联提的援助中才加了硅工业和压工业。

硅需要从铝土矿中提炼,因此国家将这个项目给了辽宁抚顺铝厂，去年十二月,苏联的专家抵达了辽宁，在苏联专家的积极帮助，时至二月，终于完成了提炼炉的选址工作，施工建设大概需要半年左右，不过来自苏联专家的援助很，他们表示1955年九月以前将能生产第一炉硅锭。

而这还只是万里征第一步，相关工业人才需要到苏联去培训，而在的生产工艺上，如硅片上的电路蚀刻，需要解决曝光机、浸、镀铜涂覆，超纯清洗生产这些生产环节的材料和工艺问题。

曝光机的问题，方叶给了光机所黄昆教授的光学研究小组，目前研究度良好，至于镀铜涂覆工艺在天和电已有技术积累，他们两年前就已经解决了电路板上的镀铜涂覆工艺。

电路板与硅片上的镀铜工艺有相通之，而不同在于，一个是印刷后相蚀刻，一个是曝光蚀刻。之所以硅片要采用曝光工艺，原因便在于，硅片基材相对pcb板材质不同，而且前者的面积太小，度要求更。

而曝光机就是世界上最早的工业光刻机，其原理是将一块刻有微型电路线路的胶板(这块胶片除电路线路之外的分全工艺顺序用黑材料行遮蔽)，而后将其置于曝光台上，方放置涂有特殊浸光的硅片，当紫外光线投到胶片上后，的电路将会被映照(蚀刻)在硅片上。

基于不同的电路线路、标记或蚀刻能力，它至少需要二至三次以上的重复曝光，才能完成最终的蚀刻。

整个工艺过程之中，需要经历第一次浅光源浸、蚀刻、超纯洗，描线路;第二次光源浸、蚀刻蚀，刻需要度，超纯洗;而后涂覆遮蔽材料，经烧结化后，行遮蔽层电路蚀刻、再次超纯洗;其后才能开始镀铜涂覆，完成镀铜还需要最后一次相或激光蚀刻,去除了基板上的遮蔽材料，保留电路，

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